Fórmula química de carboneto de boro B4C. Um cristal preto brilhante com densidade relativa de 2,52, ponto de fusão de 2.350 ℃ e ponto de ebulição acima de 3.500 ℃. Estável em propriedades químicas, insolúvel em água e vários ácidos e solúvel em álcalis fundidos. A dureza é inferior à do diamante, mas superior à do carboneto de silício, com dureza Mohs de 9,3. Possui alta capacidade de captura de nêutrons térmicos, é resistente ao desgaste e possui condutividade semicondutora. O requisito geral para a qualidade do produto é que o teor de B4C nas partículas abrasivas não seja inferior a 95% e o teor de energia nuclear não seja inferior a 98%. O carboneto de boro é amplamente utilizado nos processos de retificação e polimento de pedras preciosas devido ao seu excelente desempenho. A safira é o material de substrato ideal para aplicações práticas, como diodos emissores de luz (LEDs) semicondutores GaN / Al2O3, circuitos integrados de grande escala SOI e SOS e filmes finos nanoestruturados supercondutores. Como substrato de LED, os chips de safira exigem um alto nível de suavidade de superfície, que deve ser ultra suave e sem danos. A qualidade do dispositivo depende principalmente da tecnologia de processamento de superfície do substrato, e a retificação é um elo fundamental na indústria de safira. Diferentes abrasivos têm um impacto significativo na retificação de safira e no polimento químico-mecânico. Atualmente, o carboneto de boro como abrasivo de safira substituiu gradualmente o abrasivo de diamante, reduzindo bastante o custo do processo de retificação.
